近日，劍橋大學電氣工程系金鐘民教授團隊在高端顯示領域實現關鍵技術突破，全新研發的裂紋輔助轉移印刷（CATP）工藝，成功攻克量子點像素微型化製造瓶頸，製備出超高密度納米級量子點像素陣列。該項創新成果已正式刊發於國際頂刊《自然電子學》，有望徹底改善AR、VR設備顯示短板，推動沉浸式可穿戴設備的視覺體驗邁向新高度。
憑藉高色域、高亮度與低功耗優勢，量子點技術被視作下一代顯示產業的核心方向，轉移印刷則是主流量產工藝。但長期以來，行業面臨難以突破的物理瓶頸：當像素尺寸持續縮小，像素與基底的粘接力會遠超轉移拾取力度，單純優化傳統工藝已無法突破解析度上限，制約了高清沉浸式顯示設備的疊代升級。
對此，劍橋團隊跳出傳統技術優化思路，引入斷裂力學原理重構生產邏輯。全新CATP工藝通過可控預裂解工序，提前弱化像素與周邊材料的結合力度，從根源降低像素轉移阻力，精準平衡納米級力學參數。
依託該技術，團隊成功打造出600×900納米規格的無鎘量子點像素，實現16933 PPI的超高像素密度，躋身當前全球解析度頂尖的電致發光量子點陣列行列。
據介紹，該工藝可穩定實現紅綠藍全彩像素製備，能夠適配薄膜電晶體背板，可直接集成製作完整的全彩QD-LED顯示器件。區別於諸多實驗室技術，CATP工藝兼容彈性印章大面積量產體系，具備極強的商用落地潛力，為產業化普及奠定基礎。
該技術對沉浸式產業意義重大，可有效解決AR/VR設備普遍存在的「紗窗效應」，大幅提升畫面細膩度與虛實融合自然度，同時可拓展至醫療可視化、工業設計等高端場景。目前團隊正加速技術疊代，開放產業合作通道，推動前沿顯示技術從實驗室走向商用落地。
