據最新報道，蘋果公司 20 周年紀念版 iPhone 將採用全新的曲面設計，邊框更窄。
一位名為「@phonefuturist」的蘋果用戶昨天和今天分別發布了兩條帖子，分享了這一消息。第一條帖子指出，這款被稱為「周年紀念版」iPhone 的設備將採用 1.1 毫米的超窄邊框，並擁有流暢的曲面設計。帖子中包含一張模擬圖，展示了凸面玻璃螢幕邊緣向下彎曲，與類似 iPhone X 的纖薄拋光邊框完美銜接。作為對比，iPhone 17 Pro 的邊框厚度約為 1.44 毫米。
在今天的後續帖子中，該賬號將這款設備稱為iPhone「XX」（即 iPhone 20），並聲稱蘋果一直在評估三星的面板下攝影機（UPC）技術，作為傳聞中更常見的屏下攝影機（UDC）方案的替代方案，但最終發現 UPC 的圖像質量不足。因此，該帖子聲稱，iPhone 20 可能採用比現有 iPhone 17 Pro 更小的靈動島，或者採用挖孔屏設計，並搭配三星的「Polar ID」人臉識別系統。
據報道，蘋果仍計劃為 iPhone 20 採用全面屏設計，但就在今年 1 月，有報道稱，由於在不降低拍照質量的情況下將前置攝影機隱藏在螢幕下方的技術難度，全面屏的計劃可能面臨不確定性。
